LBO 三硼酸鋰(LiB3O5)非線性晶體

非線性光學晶體三硼酸鋰(LiB3O5或LBO)具有一系列的特性:從VUV到IR的寬透明范圍、高光學損傷閾值、高有效非線性系數和非臨界相位匹配可用性、非常小的走離(walk-off)。采用改進的高溫熔劑法生長LBO晶體。
LBO在0.16和3.3µm處具有帶邊(band edges)。其有效透射范圍(<5%/cm)為0.21至2.3µm。但是,如果可以接受更高的吸收,LBO通過允許更深的UV混合來補充BBO。它還允許標稱1.0-1.3µm I型SHG的溫度可控非臨界相位匹配(NCPM)。LBO還為II型SHG(0.8-1.1µm)和THG(0.95-1.2µm)提供室溫準NCPM(角度調諧,同時保持=90°),這是一種的性能,部分歸因于其雙軸性。
LBO較低的雙折射將其UV相位匹配限制在某些較長波長輻射的組合上,但它也具有明顯較大的角度接收帶寬,從而降低了對源激光器的光束質量要求
主要特性
| 復合物 | LiB3O5 | |
| 透光率, µm | 0.16 – 2.6 | |
| 非線性系數, pm/V | d31 = 0.67; d32 = 0.85 | |
| 對稱度 | 斜方晶系, mm2 point group | |
| 晶胞參數 | a=8.447, b=7.3798, c=5.1408 Å | |
| 典型反射系數 | 1064 nm | nx=1.5656, ny=1.5905, nz=1.6055 |
| 光學損壞閾值, GW/cm2 | 1053 nm | 2.5 |
| 截止 | 二次諧波 | 554 nm 794 nm |
| 離散角, ° | Type I | 0.43 |
| 莫氏(Mohs)硬度 | 6 | |
| 定向精度, arc min | < 30 | |
| 平行度, arc sec | < 30 | |
| 平面度 | 546 nm | λ/6 |
| 表面質量, scratch/dig | 20/10 | |
應用
· 應用于YAG: Nd, YAG: Ho, Ti: Sapphire, 翠綠寶石激光器二次諧波的產生
-
應用于YAG: Nd, Ti: Sapphire,翠綠寶石激光器三次諧波的產生
-
光學參量放大器OPA與光學參量振蕩器OPO(泵浦功率為308、355、532和1064 nm)
-
皮和飛激光系統中的自相關器(薄晶體中)
對于所有晶體,我們能夠為特定應用提供合適的防反射/保護涂層,以及反射率曲線。

非線性光學晶體三硼酸鋰(LiB3O5或LBO)具有一系列的特性:從VUV到IR的寬透明范圍、高光學損傷閾值、高有效非線性系數和非臨界相位匹配可用性、非常小的走離(walk-off)。采用改進的高溫熔劑法生長LBO晶體。
LBO在0.16和3.3µm處具有帶邊(band edges)。其有效透射范圍(<5%/cm)為0.21至2.3µm。但是,如果可以接受更高的吸收,LBO通過允許更深的UV混合來補充BBO。它還允許標稱1.0-1.3µm I型SHG的溫度可控非臨界相位匹配(NCPM)。LBO還為II型SHG(0.8-1.1µm)和THG(0.95-1.2µm)提供室溫準NCPM(角度調諧,同時保持=90°),這是一種的性能,部分歸因于其雙軸性。
LBO較低的雙折射將其UV相位匹配限制在某些較長波長輻射的組合上,但它也具有明顯較大的角度接收帶寬,從而降低了對源激光器的光束質量要求
主要特性
| 復合物 | LiB3O5 | |
| 透光率, µm | 0.16 – 2.6 | |
| 非線性系數, pm/V | d31 = 0.67; d32 = 0.85 | |
| 對稱度 | 斜方晶系, mm2 point group | |
| 晶胞參數 | a=8.447, b=7.3798, c=5.1408 Å | |
| 典型反射系數 | 1064 nm | nx=1.5656, ny=1.5905, nz=1.6055 |
| 光學損壞閾值, GW/cm2 | 1053 nm | 2.5 |
| 截止 | 二次諧波 | 554 nm 794 nm |
| 離散角, ° | Type I | 0.43 |
| 莫氏(Mohs)硬度 | 6 | |
| 定向精度, arc min | < 30 | |
| 平行度, arc sec | < 30 | |
| 平面度 | 546 nm | λ/6 |
| 表面質量, scratch/dig | 20/10 | |
應用
· 應用于YAG: Nd, YAG: Ho, Ti: Sapphire, 翠綠寶石激光器二次諧波的產生
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應用于YAG: Nd, Ti: Sapphire,翠綠寶石激光器三次諧波的產生
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光學參量放大器OPA與光學參量振蕩器OPO(泵浦功率為308、355、532和1064 nm)
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皮和飛激光系統中的自相關器(薄晶體中)
對于所有晶體,我們能夠為特定應用提供合適的防反射/保護涂層,以及反射率曲線。
更新時間:2023/5/24 17:35:26












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