OTF-1200X-S-FBUS是一款帶超聲霧化模塊的立式流化床管式爐系統，可適用于粉末材料的CVD工藝中（FBCVD）。此系統由顆粒懸浮立式管式爐和超聲霧化模塊組成。爐管內部嵌有一多孔石英板，石英板的孔徑為5-15um.粉末可放在多孔石英板上，氣體可從爐管下端通入，通過多孔石英板使樣品顆粒懸浮在加熱區域，進行沉積實驗。對于核殼結構的納米顆粒制備是一款理想的實驗儀器。
技術參數
| 產品名稱 | 帶超聲霧化的流化床CVD管式爐系統-OTF-1200X-S-FBUS |
| 基本參數 | 電壓：AC 220V 單相，50/60Hz；功率：1.2KW 工作溫度：1100℃；連續工作溫度：1000℃ 升溫速率：≤20℃/min；加熱區：200mm（單溫區） 恒溫區：100mm（±2℃） 注：由于測量手段及外部環境的影響，測量結果可能會有偏差，此參數僅供參考不作為該設備的技術指標。您購買產品需要準確的恒溫區數據，請與我公司銷售人員聯系。 |
| 流化區域 | 配有一個2.4MHz超聲霧化儀，可將液體霧化成亞微米級液滴引入到加熱流花區域進行熱解或粉末表面的CVD涂層包覆。 氣體以及亞微米級的霧化顆粒均勻分布在整個爐腔中。 固體顆粒被底部通入的向上氣體懸浮在加熱區內。 可提供的熱傳導及顆粒表面的均勻包覆。 爐體設計為開啟式，當實驗結束后，可將爐體打開，拿出石英管，去除反應后的顆粒。 注意：在通入氣體懸浮起樣品顆粒時，也許會因為氣體流量過大會使顆粒穿過加熱區，所以實驗時要根據顆粒的大小尺寸來調節氣體流量。 |
| 超聲霧化儀 | AC 220V，2.4MHz高頻超聲波霧化器，可將溶液霧化為亞微米級顆粒。 液體罐上涂有氟化物，并采用氟膠密封圈密封。 可設置超聲儀功率0-99%，每次按5%增加。 外部配備有氟化物光學傳感器（耐腐蝕）以及閥門來確保內部液面處于合適高度，避免液體量過少。 316不銹鋼三通，帶有1/4英寸轉換接頭，用于通入載流氣體。 |
| 多孔石英板 | 孔徑：5~15μm 尺寸：22mm O.D×4mm厚 |
| 爐體結構 | 雙層殼體結構并帶有風冷系統。 爐體設計為開啟式，以方便放樣和取樣。 采用高純氧化鋁纖維作為爐膛材料，并且表面涂有美國進口1760度高溫氧化鋁涂層，可延長儀器使用壽面和提高加熱效率 |
| 爐管尺寸和材料 | 包含一異型石英管 爐管尺寸：兩端：25mm O.D,22mm I.D 中間：50mm O.D,44mm I.D 中間區域的大尺寸確保了物料高的氣動性。 |
| 密封法蘭 | 底部法蘭：常規設計1"不銹鋼真空法蘭，配備1/4"進氣口用于懸浮氣體進入。 頂部法蘭：特殊設計的1"法蘭，可實現前驅動氣體或你流氣體的進氣和出氣。 |
| 可選配件 | 多路氣路系統可用于氣體控制。 氧分析儀：氧分析儀可安裝在系統中用于檢測氣體中的氧含量從而防止或減少CVD過程中的氧化現象。 |
| 溫控系統 | 可設置30段升溫，保溫和降溫程序。 采用PID方式來調節溫度，并帶有過熱和斷偶保護。 控溫精度：±1℃ |
| 加熱元件 | 摻鉬鐵鉻鋁合金 |
| 尺寸 | 340mm×300mm×1000mm（W×L×H） |
| 質量 | 約20kg |
| 質保期 | 一年質保期，終生維護（不包含爐管、密封圈及加熱元件等耗材） |
| 質量認證 | 所有元器件（>24V）都通過UL/MET/CSA/CE認證，若客戶出認證費用本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CSA認證 |
| 使用注意事項 | 爐管內氣壓不可高于0.02MPa。 由于氣瓶內部氣壓較高，所以向爐管內通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa使用時會更加精確安全。 當爐體溫度高于1000℃時，爐管內不可處于真空狀態，爐管內的氣壓和大氣壓相當，保持在常壓狀態。 進入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊。 石英管的長時間使用溫度<1100℃。 對于樣品加熱的實驗，不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關注壓力表的示數，若氣壓表示數大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發生（如爐管破裂，法蘭飛出等） |
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