OTF-1200X-Ⅱ-S2是一款雙溫區帶有升降雙通道進料系統的共蒸發多層沉積管式爐，通過升降雙通道進料系統可裝載4個不同材料的蒸發坩堝舟，并且可一次同時送入兩個蒸發坩堝源進入管式爐中進行共蒸發或反應蒸發。雙溫區管式爐可以實現快速加熱，并且通過對各個溫區設置不同的加熱溫度可以創建不同的溫度梯度從而實現蒸發沉積。雙通道進料系統可以在程序控制下將2個裝載不同蒸發料的坩堝一同推進拉出，實現共蒸發或者反應蒸發，特別適用于多層二維晶體材料的制備。
技術參數
名稱 1200℃多坩堝同時移動型管式爐（可同時移動2個坩堝源）-OTF-1200X-Ⅱ-S2 管式爐 雙溫區管式爐：兩個獨立的溫控系統對每個溫區進行獨立控溫 電壓：220V AC 50/60Hz 功率：3KW 加熱區長度：440mm 恒溫區長度：300mm 溫度曲線圖(兩個溫區設置在800℃時所測，僅供參考） 爐管材料：高純石英管 標配爐管尺寸：Φ100（外）×Φ94（內）×640（長） 工作溫度：1200℃（＜1h） 連續工作溫度：1100℃ 控溫精度：±1℃ 推薦升溫速率：10℃/min 坩堝推送機構（升降雙通道進料系統） 一根鎧裝熱電偶通過左端法蘭通入爐管內部，并與坩堝相連接，實現溫度的實時監測（如圖1）。 升降雙通道進料系統放置在一中空的真空腔體中，上方采用不銹鋼真空法蘭進行密封，兩端同樣采用不銹鋼真空法蘭與坩堝推進裝置及管式爐進行連接，保證進料在真空狀態或者氣氛保護狀態下進行運作（圖2）。 進料系統真空腔體右端與管式爐連接法蘭處安裝有2個獨立小石英管（圖3）。 在升降雙通道進料系統中至多可放入4個坩堝（圖4），利用推送系統可交替將4個不同蒸發源單個依次送入石英管中，也可將放入不同材料的2個坩堝蒸發源一同送入，分別精確的推入兩個獨立的小石英管中（圖5），找到所需的蒸發溫度處進行共蒸發或者反應蒸發，保證實驗的重復性以及穩定性（圖6）。 圖一 圖二 圖三 圖四 圖五 圖六 坩堝推送控制系統 采用PLC觸摸屏控制。 通過一步進電機控制坩堝的移動速度和位置，進樣位置和速度可調。 可控制坩堝移動位移為1mm。 坩堝移動距離為200mm。 真空表 機械壓力表+數顯壓力表 真空泵 真空度：10E-2 torr（采用機械泵），10-E5 torr（采用分子泵） 混氣系統 此套設備中配有一2路混氣系統 輸出功率：18W 工作溫度：5-45℃ 精度：±1%FS 質量流量計量程：1:0-100sccm 2:1-199sccm 可根據客戶要求選購1-5路供氣系統 水冷系統 標配—16L循環水冷系統 產品尺寸 2600mm（L）×600mm（W）×900（H）mm 質保期 一年質保期，終生維護。 質量認證 CE認證 所有電器元件（>24V）都通過UL/MET/CSA認證 若客戶出認證費用，本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CSA認證。 國家 名稱：一種小型熱等靜壓爐裝置 編號：ZL-.0 使用注意事項 爐管內氣壓不高于0.02MPa。 由于氣瓶內部氣壓較高，所以向爐管內通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa，使用時會更加精確安全。 當爐體溫度高于1000℃時，爐管內不可處于真空狀態，爐管內的氣壓需和大氣壓相當，保持在常壓狀態。 進入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊。 石英管的長時間使用溫度<1100℃。 對于樣品加熱是實驗，不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱，則需要時刻關注壓力表的示數，若氣壓表示數大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發生（如爐管破裂，法蘭飛出等）。 應用注意事項 此款管式爐具有多種用途。 熱蒸發：把蒸發料放在坩堝里，通過移動坩堝來精確找到所需要的蒸發溫度。 HPCVD：通入反應氣體與蒸發的物料反應后再沉積。 共蒸發沉淀或反應蒸發沉積:利用的雙通道進料裝置可以實現兩蒸發源的同時送入，實現共蒸發沉積或反應蒸發沉積。 多層二維晶體：此套設備可以實現多層二維晶體的制備（硒化物硫化物等），操作方便簡單，實驗更具精確性、重復性。 免責聲明 本站產品介紹內容（包括產品圖片、產品描述、技術參數等）僅供參考?？赡苡捎诟虏患皶r和網站不可預知的BUG造成數據與實物的偏差。如果您對參數有異議，或者想了解產品詳細信息，請與本公司銷售人員聯系。本站提供的信息不構成任何要約或承諾，科儀公司會不定期完善和修改網站任何信息，恕不另行通知，請您見諒。
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