產(chǎn)品概述
P-M是一款將真空式等離子體技術(shù)應(yīng)用于各種不同領(lǐng)域的研究性操作平臺，除了實現(xiàn)常規(guī)清潔樣品和表面改性的功能外，通過添加不同的功能模塊，可以實現(xiàn)等離子體鍍膜，等離子體合成反應(yīng)，等離子體純化等功能。極大的拓展該設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域。
一、產(chǎn)品原理
P-M是一種非破壞性的表面處理設(shè)備，它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)，在一定真空負壓的狀態(tài)下，以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性的氣體等離子體，該等離子體以一定能量作用于樣品表面，引起分子結(jié)構(gòu)改變和表面形貌的納米級變化，從而達到對樣品表面進行改性和分解污染物的目的。
二、應(yīng)用范圍：
等離子表面處理技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、高分子、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。P-M小型等離子表面處理設(shè)備以體積小、成本低、操作簡便等特點廣泛應(yīng)用于科研及小批量生產(chǎn)場合。
規(guī)格參數(shù)
| P-M參數(shù)(標準配置) | |||
| 外部尺寸 | 641*533*451mm |
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| 真空腔尺寸 | 直徑215mm*235mm | 不銹鋼腔體 | |
| 電極尺寸 | 120*125mm | 多控自適應(yīng)平板電極 | |
| 等離子體發(fā)生器 | RF射頻發(fā)生器，頻率：13.56MHz | 自適應(yīng)阻抗匹配電源 | |
| 功率 | 0-200W連續(xù)可調(diào) | 精度1W | |
| 真空計 | 熱電偶真空計 0-1000mT |
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| 供氣 | 1路氣體 | 6mm國標連接件（軟管） | |
| 控制方式 | 4.3寸觸摸屏 |
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| 可 選 配 置 | |||
| ALC | 純鋁腔體 |
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| RF-300 | 等離子體發(fā)生器 | 頻率13.56MHz ，0-300W自動阻抗匹配電源 | |
| 可調(diào)電極 | 可調(diào)節(jié)電極間距 | 電極間距20-60mm可調(diào)，改變等離子體場濃度特性 | |
| CM裝置 | 沉積鍍膜模塊 | 用于改變表面特性： 1、沉積CF材料，樣品表面可以具有憎水的特性 2、沉積含苯材料，樣品表面起到絕緣防水的特性 3、沉積含有羥基的材料，提高樣品表面和其他材料的結(jié)合效果。 | |
| GP裝置 | 氣體純化裝置 |
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| PPU | 粉體處理裝置 | 用于處理微納米級別顆粒 | |
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| 氣體收集裝置 | 用于收集等離子體化學(xué)反應(yīng)后的氣體 | |
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| 小型氧氣發(fā)生器 | 用于制備氧氣，可取代氧氣罐 | |
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| 氣體混合裝置 | 可以根據(jù)可以要求進行混氣設(shè)計 | |
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| 感應(yīng)耦合模塊 | 感應(yīng)耦合等離子體裝置 | |
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| 加熱電極模塊 | 電極可以加熱，室溫~200度可調(diào)。 | |
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| 光譜儀模塊 | 可以增加光譜儀的接口，檢測等離子體光譜變化 | |
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| 電極轉(zhuǎn)換模塊 | 可以自由變換電極設(shè)計，樣品可以放在射頻電極上，也可以放在地電極上。從而實現(xiàn)不同的處理效果。 | |
| 抽氣裝置 |
| 飛躍 VRD-8 二級油泵 尺寸：495x160x237mm 功率：1000W 抽氣速率：8m3/h | |
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